一、设备结构与工作原理

1.玻璃钢前置预处理单元石英砂、活性炭、软化树脂三级过滤组合，搭配全自动电动多路阀，可定时自动完成产水、反洗、树脂再生流程；提前去除原水中泥沙、铁锈、余氯、钙镁硬度离子，全方位保护后端各级反渗透膜，避免膜元件划伤、结垢堵塞。

2.一级 8T 反渗透预脱盐单元（图中左侧大通量膜壳段）8 吨大通量一级 RO 先行过滤，去除水中 98% 以上溶解盐、胶体、重金属、悬浮杂质，产出达标工业纯水；富余纯水可直接分流至车间清洗、冷却循环等普通用水工序，提升水资源利用率，降低整体供水能耗。

3.二级 5T 反渗透深度提纯单元一级产水引入二级 RO 系统完成二次脱盐，针对性去除二氧化硅、游离二氧化碳，将水质提纯至 EDI 专用进水标准，大幅降低 EDI 膜堆硅垢沉积概率，延长 EDI 清洗、更换周期。

4.5T EDI 连续电除盐精处理单元二级纯水通入 EDI 膜堆，依靠电场力持续剥离水中残余阴阳离子，树脂实现电化学自动再生，全程无需盐酸、氢氧化钠等危化品药剂；最终产出电阻率 15–18.2 MΩ・cm（25℃时）电子级超纯水，专供芯片蚀刻、镜片镀膜、试剂配制等高精密工序使用。

5.分段联动智能电控系统一级 RO、二级 RO、EDI 三段独立电控监测，可分别实时显示各段产水电导率、系统压力、流量；具备膜元件自动冲洗、高低压缺水保护、水质超标声光报警功能；单一段故障仅单独预警停机，其余工段可持续基础供水，保障生产线连续运转。

2、核心作用

1.一套设备双水质供应，节约采购与占地成本8 吨一级 RO 产出普通工业纯水，满足厂区基础清洗需求；5 吨二级 RO+EDI 产出超高纯度超纯水，适配精密加工工序。无需分开采购两套纯水设备，大幅节省设备采购预算与厂房放置空间。

2.三级分层脱盐，稳定产出电子级高纯超纯水一级大通量预脱盐分担大部分离子负荷，二级 RO 针对性去除硅化物，EDI 深度脱除微量残余离子；三重净化可彻底消除微量离子引发的芯片短路、线路板氧化、光学镜片水印瑕疵，显著提升产品良品率。

3.EDI 无酸碱再生，绿色合规降低运维投入摒弃传统混床酸碱再生工艺，EDI 依靠电场自动再生树脂，无腐蚀性酸碱废液排放，无需单独设置危化品库房；省去药剂采购、废液处理、危化品管理人工成本，完全符合工业园区环保管控标准。

4.大流量一级前置防护，延长 EDI 耗材使用寿命8 吨一级 RO 提前滤除绝大部分盐分、硅垢前驱物，大幅降低二级 RO 与 EDI 膜堆处理负荷；对比传统单级 RO 直供 EDI 方案，EDI 清洗周期可延长 2 倍以上，长期削减耗材更换开支。

5.分段独立运行，检修不中断基础生产三段设备采用独立电控控制，单一段设备检修维护时，其余工段可正常供水，不会导致全厂生产线停水停工，保障工厂 24 小时不间断生产。

三、产品核心优势

1.分级制水创新设计，水资源利用率更高8 吨大流量一级 RO 分流供给基础清洗用水，5 吨 EDI 专供高纯精密工序，按需分配不同纯度水源，减少纯水浪费，降低整体供水能耗。

2.双级 RO 前置防护，从源头保护 EDI 膜堆两级反渗透逐级去除杂质、硅化物，避免 EDI 内部产生硅垢、离子污染，减少停机清洗频次，延长 EDI 膜堆使用寿命，降低长期运维成本。

3.EDI 连续电除盐，无危化品、环保省心全程不使用酸碱再生药剂，无腐蚀性废水排放，无需专人专项管理危化品，适配环保督查严格的电子、光电产业园区。

4.重型 304 不锈钢撬装机架，适配长期连续运行整机机架、膜壳连接件、保安过滤器全部采用 304 不锈钢材质，防锈耐腐蚀，长期运行不会析出金属离子污染超纯水，保障出水水质长期稳定。

5.分段智能监控，故障分层预警，运维便捷一级、二级、EDI 三段独立监测水质与运行参数，故障单独报警提示，运维人员可快速定位故障点位，分段检修不会影响厂区基础供水。

四、适用行业场景

✅ 半导体、晶圆、芯片制造产业园：光刻、蚀刻、晶圆切割清洗高纯超纯水

✅ PCB、FPC 柔性线路板生产基地：电镀、显影、脱膜工序精密清洗用水

✅ 液晶显示屏、光伏硅片工厂：镀膜、切割、组件漂洗超纯水

✅ 精密光学、镜头、玻璃镜片加工厂区：无水印镜面清洗用水

✅ 生物医药、医疗器械生产企业：药剂配制、器械清洗纯化水

✅ 第三方检测、大型理化实验室：高纯度分析实验专用超纯水